艾科浦 AD2L超纯水机 艾科浦纯水机
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二级RO+CD+抛光混床技术在半导体封装-艾科浦

[导读]文章个绍了无锅某半导体エ厂后段封装产线超纯水系统的工程设计与运行情况。该系统采用了二级RO+CDI+抛光混床技术,确保产水水质达到生产线使用要求,其中电阻率16M2・cm以上。系统送行自动化程度高,稳定性好,化学品消耗量少,操作简便,运行资用低-美国艾科浦

无锡某半导体工厂后段封装产线超纯水系统,根据产线对水质的使用要求,处理工艺力求简单、可靠、先进、能耗低、投资少,占地面积少。在保证出水达标的情况下,尽量减少工程投资与运行费用

1.1原水水质

超纯水系统以市政自来水作为原水,无锡地区自来水水质各项指标见表1。超纯水系统出水电阻率要求达到16M9.cm以上,循环使用量为3m/h

主要工艺路线:市政自来水首先经过石英砂过滤器,活性炭过滤器进行预处理;换热后经,二级RO-CDI脱盐系统完成超纯水的制备;最后通过抛光混床实现超纯水供水。工艺流程图见图1。



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